据国际金融机构 Bernstein（伯恩斯坦）整理的数据败露，2025 年中国入口光刻机所破耗的金额为 106.2 亿好意思元，与 2024 年基本握平。在 2025 年 12 月份，中国的入口光刻机金额创下了 23 亿好意思元的月牙度记载。据 ASML 年度财报大会暗示，展望 2026 年中国大陆地区占 ASML 总销售额比例将会镌汰至 20%，只可出口给中国特定的本领家具。

开发入口

据 ASML 在 2025 年第四季度发布的财报数据败露，中国大陆地区在昨年第四季度占据了 ASML 总销售数目的 33%，购买的开发绝大部分都是未被次第的 DUV 光刻机。天然中国大陆地区在该季度依然是 ASML 出货量最多的地区，可是对比 24 年同时的 41%，下滑彰着。

现如今，在 ASML 官方上架的浸润式光刻机尊府当中，从 NXT:1980Fi 到 NXT:2150i 沿路谢透澈华出口，以致仍是在官方尊府库下架的 NXT:1970i，也被好意思国列入谢透澈华出口的清单中。这些开发领有制造 7nm 逻辑芯片的智商，亦然好意思国近几年除 EUV 光刻机除外，对中国防备遵照的要津开发。

而较差一些的 NXT:1950i、NXT:1965i 以及干式光刻机等老旧开发，则是被好意思国允许出口给中国企业。这些开发大部分都用在制变老到芯片和存储芯片上，最高可支握 20nm 及以下节点的存储芯片制造。

受东谈主工智能爆发式的影响，刻下巨匠存储芯片的产能仍是不及以援助破钞电子行业的需求，这径直推高了全行业的家具售价。中国的长江存储和长鑫存储正在借此契机进行产能推论，尝试借助当下的窗口期遣散对国外企业的商场压制。

在存储芯片产能推论的激动下，中国大陆地区再一次成为 ASML 巨匠最大的客户商场。

我国工信部在 2024 年公布了两台最新的国产光刻机，一台是选拔 248nm 波长的 KrF 光刻机，一台是选拔 193nm 波长的 ArF 干式光刻机，这两台开发均为制变老到芯片所需的开发。国产 ArF 光刻机的硬件办法荒谬于 ASML 在 2015 年推出的 XT:1460K，可是在套刻精度上头要差于 1460K。

套刻精度指代的是高下两层晶圆图像之间的瞄准精度，精度越高，其图案的堆叠正确率就越高，芯片的良品率也就越高。若是精渡过低，那么其径直影响的便是芯片良品率和产能。

若是将这个问题具象化体现，那么就荒谬于盖楼房。

配置一座摩天大楼，每一层的钢筋骨架必须要皆备对其。哪怕是有差错，也必须次第到极其狭窄的合理步伐上。若是对其的步伐分别格，幸运飞艇app下载那么可能变成里面骨架断裂，以致是楼层崩塌的情况。

同理，若是光刻机在曝光新一层电路时，高下两层图案的位置发生偏移，即使惟有几纳米的偏差，也可能导致金属连线未能贯穿到晶体管触点，或者是本应该阻遏的导线不测战斗，从而变成芯片功能失效，影响其家具良率和制造效果。

替代难点

现阶段的国产光刻机仍是具备量产芯片的智商，可是由于其套刻精度的影响，还无法进入到坐褥线上头大领域替代入口开发。

ASML 的光刻机，从几十年前的 PAS 系列运行，其瞄准本领便是行业内的翘楚。只不外曩昔的芯片本领莫得刻下这样先进，芯片的晶体管数目也相配有限，是以 ASML 的瞄准本领莫得彰着上风。

可是跟着行业发展，芯片本领进入到超大领域期间，ASML 的瞄准本领出现了爆发性的上风增长。也恰是因为 ASML 雄伟的晶圆瞄准本领，ASML 光刻机的制造效果远强于日本的佳能和尼康，随后便运行在国际商场上小数点蚕食日本光刻机的商场。

据 ASML 官方本领尊府败露，EUV 光刻机是当下制造先进芯片的中枢开发，英伟达的 RTX 显卡、iPhone 的仿生芯片，其电子元件中的狭窄图案多达 100 多层。尽管这 100 多的层图案当中惟关系键几层需要用到 EUV 光刻机，可是艰辛了 EUV 光刻机，通盘这个词芯片无法平素使用。

ASML DUV XT 光刻机家具总监耶伦 · 德格鲁特阐述称，在起原进电子家具中的某些芯片可能选拔了浸润式 DUV 和 EUV 本领，可是援助家具运行的其他大多数芯片，以致是先进芯片的大部分图案层级，都是由干式光刻机制造完成。

芯片大概被大都量廉价制造出来，干式光刻机起到了决定性作用。若是莫得干式光刻机援助最底层的老到芯片产业，那么先进芯片是莫得任何商场的。相干于先进开发，老型号的 DUV 光刻机才是商场主流。

参考尊府：

The popularity of maturity – Stories | ASML